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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
Daeil Kim (울산대학교)
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제20권 제5호
발행연도
2011.9
수록면
356 - 360 (5page)

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유리 기판 위에 RF와 DC 마그네트론 스퍼터링 방법으로 100 ㎚ 두께의 In₂O₃ 단층 박막과 In₂O₃ 100 ㎚/Cu 3 ㎚의 두께를 갖는 적층박막을 증착하고, 구리 기저 층 증착에 따른 상부 In₂O₃ 박막의 광학적, 전기적 특성의 변화를 연구하였다. 상온에서 증착 된 In₂O₃ 박막의 가시광 투과도와 면 저항은 79%와 2,300 Ω/□이었다. 구리 기저 층의 광 흡수에 의하여, In₂O₃/Cu 적 층박막의 가시광 투과도는 71%로 감소하였으나, 면 저항은 110 Ω/□로 측정되어 상대적으로 우수한 전기적 특성을 구할 수 있었다. 본 연구에서 Figure of Merit 분석을 통하여 구리 기저 층이 상부 In₂O₃ 투명전극의 전기적, 광학적 특성을 개선 할 수 있음을 확인하였다.

목차

Ⅰ. Introduction
Ⅱ. Experiments
Ⅲ. Results and Discussion
Ⅳ. Conclusions
References

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2019-420-001273477