지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2020.2
- 수록면
- 212 - 212 (1page)
이용수
초록· 키워드
오류제보하기
등록된 정보가 없습니다.
목차
등록된 정보가 없습니다.
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
Variation of reflectivity and colour in SnO₂/Ag/SnO₂ structure with Nb₂O5 and SiO₂ index matching layer
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
-
Effect of Underlayer, CoFeB Composition and Annealing Temperature on Perpendicular Magnetic Anisotropy of CoFeB
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2021 .07
-
Reduced Charge Trapping and Gate Leakage Current of Solution Processed SiO₂ Dielectric by Incorporating Hydrogen Peroxide
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
-
Effects of Annealing Temperature on Capacitance-Voltage Characteristics of Al/HfO2/Ge Capacitors
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
-
High-temperature-resistant soft magnetic composite comprising layered anisotropic Fe-Si chips with tunable double insulation layer via high temperature annealing: Synergy of MgO and SiO₂
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2022 .05
-
Influence on the performance of the transparent front surface layer by thermal annealing for SHJ solar cells
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
-
Hafnium Oxide Layer Based Metal-Oxide-Semiconductor (MOS) Capacitors with Annealing Temperature Variation
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
-
성장 온도에 따른 원자층 증착법으로 증착된 SiO₂ 박막의 특성
새물리
2023 .01
-
Rapid Thermal Annealing at the Temperature of 650℃ Ag Films on SiO₂ Deposited STS Substrates
Applied Science and Convergence Technology
2017 .11
-
Properties of resistive switching in SiO₂/Si/TiO₂ structure by thermal annealing for non-volatile memory
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
-
Analysis of Trap Distribution of MOSFET using Charge Pumping Method
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
-
Investigating InSnZnO as an active layer for non-volatile memory devices and increasing memory window by utilizing Silicon-rich SiOx for charge storage layer
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
-
Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
-
Frequency Varied Capacitance-Voltage Characteristics of Al/HfO₂/Si Capacitors
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
-
Charge pumping method를 이용한 MOSFET소자의 Trap분포 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
-
Effects of double-SiO₂ thin-layers insertion on bipolar resistive switching characteristics for nonvolatile memory application
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
-
Effect of Post Deposition Annealing in N₂ Ambient on Electrical Properties of Atomic Layer Deposited HfO₂ Films on Si
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
-
Stress relaxation by strain in the Si-SiO₂ system and its influence on the interface properties
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
-
Nonvolatile charge trap memory device with In-Ga-Zn-O active channel layer using Microwave Irradiation
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
-
Effects of transition layer in SiO2/SiC by the plasma-assisted oxidation
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
이 논문의 저자 정보
최근 본 자료
댓글(0)
0
UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2020-420-000416657