Ta-Silicides 형성에 관한 연구 - 2 - ( On the Formation of Ta-Silicides - 2 - )

양희준 ,  김동원 ,  최진석 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

Ta-Silicides 형성에 관한 연구 ( 1 ) ( On the formation of Ta-Silicides - 1 - )

양희준 ,  최진석 ,  조현춘 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1990 .01

On the formation of Ta-silicides -2-

Hee-Jun Yang ,  Dong-Won Kim ,  Jin-Seog Choi 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

급속열처리시 Ta-silicide박막 형성에 미치는 불순물 인의 영향

김동준 ,  강대술 ,  강성군 외 3명

한국재료학회지

1994 .01

RTA를 이용한 COBALT-SILICIDE의 형성에 관한 연구 ( FORMATION OF COBALT SILICIDE BY RTA )

한승윤 ,  손승철 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

1989 .11

RTA를 이용한 Cobalt Silicide의 형성 및 Growth Rate에 관한 연구 ( A Study on the Formation of Cobalt Silicide and its Growth Rate by Rapid Thermal Annealing ( RTA ) )

강유석 ,  김효완 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

1988 .07

RTA를 이용한 Cobalt Silicide의 형성 및 Growth Rate에 관한 연구

강유석 ,  김효완 ,  황호정

대한전기학회 학술대회 논문집

1988 .07

Ta층을 사용한 Ti-silicide의 응집화 방지에 관한 연구

강성건 ,  최진석 ,  황유상 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

열산화 $Ta_{2}O_{5}$ 박막의 RTA후처리의 영향

문환성 ,  한성욱 ,  박상균 외 4명

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

PECVD법으로 증착된 $Ta_2O_5$박막의 누설전류에 미치는 RTA의 영향

김진범 ,  이승호 ,  소명기

한국재료학회지

1994 .01

O₂ RTA 방법으로 제조된 Ta₂O_5-x 박막의 전기적 특성

金寅性 ,  宋在成 ,  尹文洙 외 1명

전기학회논문지 C

2002 .08

열산화 T${a_2}{O_5}$박막에 미치는 RTA후처리의 영향

문환성 ,  이재석 ,  한성욱 외 4명

한국재료학회지

1993 .01

Composite Target으로 증착된 Ti-silicide의 현성에 관한 연구[II]

최진석 ,  백수현 ,  송영식 외 2명

한국재료학회지

1991 .01

니켈 코발트 합금조성에 따른 복합실리사이드의 물성 연구

김상엽 ,  송오성

한국재료학회지

2007 .01

Composite Target으로 중착된 Mo-Silicide의 형성 및 이에 따른 불순물의 거동 ( Behavior of the Implanted Dopants and Formation of Molybdenum Silicide by Composite Sputtering )

김호석 ,  백수현 ,  조현춘 외 6명

대한전자공학회 학술대회

1992 .01

RTA 후속 열처리에 의한 $Ta_{2}O_{5}-Si$ 계면 반응과 전기적 특성 변화

전석룡 ,  이정엽 ,  한성욱 외 1명

한국재료학회지

1995 .01

RTA시스템에서의 Water의 온도 Simulation과 제어방법 ( Water Temperature Simulation and Control Algorithm in RTA System )

조병진 ,  김경태 ,  김충기

대한전자공학회 학술대회

1987 .05

급속열처리에 의한 Ti-실리사이드와 접합의 동시형성에 관한 연구 ( A Study on the Simultaneous Formation of a Ti-Silicide and a Junction by the RTA Process )

민경익 ,  주승기

전자공학회논문지-A

1991 .03

Si 기판에 주입된 BF2불순물이 Ti Silicides 형성에 미치는 영향 ( Effects of Implanted BF2 on the Formation of Ti-Silicides )

최석훈 ,  최진석 ,  백수현

전자공학회논문지

1990 .12

B-TA 기술

이창범

한국통신학회 워크샵

1995 .01