반도체 습식 HF 최종 공정 중 실리콘 표면의 소수성이 Water Mark형성에 미치는 영향

한정훈 ,  김숭환 ,  박진구 외 1명

한국재료학회지

1997 .01

반도체 세정 공정에서 실리콘 표면의 접촉성과 건조 조건이 water mark 생성에 미치는 영향

김승환 ,  박진구

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1996 .11

Hf 조성변화에 따른 Fe-Hf-N 자성박막의 특성

맹기호 ,  이진혁 ,  강계명 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

2005 .01

HF농도 전류밀도 , 반응시간 및 초기표면상태가 Porous Silicon 형성에 미치는 영향 ( The influence of HF concentration , current density , reaction time and initial surface condition on the formation of porous silicon )

신종욱 ,  최광돈 ,  이종현 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1987 .11

절연가스 내에 생성되는 H₂O 및 HF의 제거

한희준 ,  최선용 ,  김희준 외 1명

한국에너지학회 학술발표회

2010 .04

반도체 공정중 연속적 산화-HF 식각-염기성 세정과정이 실리콘 기판 표면에 미치는 영향

박진구

한국재료학회지

1995 .01

HF 충진공정의 가상사고 시나리오 발굴 및 선정

장창봉

한국가스학회 학술대회논문집

2013 .05

해상 HF 디지털 무선통신 방식 비교 연구

김정창

한국방송미디어공학회 학술발표대회 논문집

2016 .06

실리콘 기판 습식 세정에 따른 a-Si:H/c-Si 계면 및 이종접합 태양전지 특성 분석

송준용 ,  정대영 ,  김찬석 외 7명

한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집

2009 .06

The Study on the Cu Impurity Removal Depending on the Cleaning Splits of ( UV/O3 + HF ) and ( H2O2 + HF )

최백일 ,  이원준 ,  안태항 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

IN792+Hf 초내열합금의 응고거동에 미치는 응고속도의 영향

배재식 ,  김현철 ,  이재현 외 2명

한국재료학회지

2001 .01

수신지점에서의 HF 대 전파잡음에 관한 조사 연구

김낙철 ,  이기철 ,  이무영

대한전기학회 학술대회 논문집

1987 .11

습식 식각에 의한 실리콘 웨이퍼의 표면 및 전기적 특성변화(1) - 불산 농도에 따른 표면형상 변화 -

김준우 ,  강동수 ,  이현용 외 3명

한국재료학회지

2013 .01

HNO₃ : H₂O₂ : HF 세척법을 이용한 실리콘 직접 접합 기술에 관한 연구

주철민 ,  최우범 ,  김영식 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

1999 .07

HF대역 전자전 장비 개발방안에 관한 연구

임용환

한국통신학회 학술대회논문집

2010 .06

HF 전처리시 실리콘 기판의 초기접합 메카니즘에 관한 연구

강경두 ,  박진성 ,  이채봉 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

1999 .07

$\textrm{SiO}_2$기판 위에 증착된 Co/Hf 이중층의 계면반응

권영재 ,  이종무 ,  배대록 외 1명

한국재료학회지

1998 .01

불산-오존-희석 암모니아수 세정에 의한 실리콘 웨이퍼 표면의 미세입자 제거

이건호 ,  배소익

화학공학

2007 .01

THE FORMATION AND PREVENTION OF WATER MARIS IN HF LAST WET CLEANING PROCESSES

Pa ,  k ,  Jin-Goo

Fabrication and Characterization of Advanced Materials

1995 .01