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자료유형
학술저널
저자정보
김응호 (한국원자력연구소) 김영환 (한국원자력연구소) 정동용 (한국원자력연구소) 유재형 (한국원자력연구소)
저널정보
한국공업화학회 공업화학 공업화학 제8권 제1호
발행연도
1997.1
수록면
108 - 113 (6page)

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본 연구에서는 질산매질에서 UV 광조사에 의한 옥살산 분해연구가 수행되었다. UV 광원은 $2537{\AA}$의 파장을 방출하는 수은램프가 사용되었다. UV 광조사에도 불구하고 옥살산 자체는 분해되지 않았다. 그러나 질산매질하에서 UV 광조사에 의해 옥살산은 쉽게 분해되었다. UV광조사에 의해 $NO_3{^-}$으로부터 발생되는 산소라디칼이 옥살산을 분해시키는 것으로 조사되었다. 옥살산 분해율은 질산 0.5M 부근에서 최대를 이루다가 질산농도 증가에 따라 점차 감소하였다. 이것 역시 산소라디칼과 $NO_3{^-}$ 사이에서 반응으로 쉽게 설명될 수 있다.

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