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논문 기본 정보

자료유형
전문잡지
저자정보
이후상 (한국기계연구원 자동화연구부 책임연구원)
저널정보
한국과학기술단체총연합회 과학과 기술 과학과 기술 제33권 제5호
발행연도
2000.1
수록면
18 - 19 (2page)

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현대의 대표적인 정밀가공기술의 하나는 반도체 가공기술이다. IMB메모리 반도체를 만드는 최소의 선폭은 1985년에는 I마이크로미터(㎛)였으나 현재의 256MB의 메모리 반도체에는 0.2㎛의 미세선폭이 사용되고 있다. 21세기에는 나노테크놀로지 기술이 정밀가공기술의 최선단을 이룰 것으로 예견되고 있는데 현재 국내의 미세가공기술은 메모리 반도체의 제조기술에 관한 한 세계의 선두를 달리고 있으며 0.18마이크론 선폭의 가공기술을 개발하여 1GB의 메모리 반도체 개발에 활용하고 있다.

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