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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
정찬회 (충북대학교 재료공학과) 김명한 (충북대학교 재료공학과)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제13권 제4호
발행연도
2003.1
수록면
205 - 212 (8page)

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RF sputtering process was applied to produce thin hydroxyapatite[HA, Ca10($PO_4$)$_{6}$ $ (OH)_2$films on Ti-6Al-4V alloy substrates. To make a 101.6 mm dia.${\times}$5 mm HA target, the commercial HA powder was first calcinated for 3h at $200^{\circ}C$. A certain amount of the calcinated HA powder was pressed under a pressure of 20,000 psi by the cold isostatic press(CIP) and the pressed HA target was sintered for 6 h at $1,200^{\circ}C$. The effects of different heat treating conditions on the bonding strength between HA thin films and Ti-6Al-4V alloy substrates were studied. Before deposition, the alloy substrates were annealed for 1 h at $850^{\circ}C$ under $3.0${\times}$10^{-3}$ Xtorr, and after deposition, the hydroxyapatite/Ti-6Al-4V alloy thin films were annealed for 1 h at 400, 600 and $800^{\circ}C$ under the atmosphere, respectively. Experimental results represented that the HA thin films on the annealed substrates had higher hardness than non-heat treated substrates before the deposition.

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