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Im, Won-Bin (Dept. of Materials Sci. and Eng., Korea Advanced Institute of Sci. & Tech.) Kim, Yong-Il (Korea Research Institute of Standards and Science) Jeon, Duk-Young (Dept. of Materials Sci. and Eng., Korea Advanced Institute of Sci. & Tech.)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
발행연도
2005.1
수록면
1,568 - 1,571 (4page)

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We have evaluated thermal stability of a $BaAl_2Si_2O_8:Eu^{2+}$ $(BAS:Eu^{2+})$, which have polymorph property such as hexagonal, monoclinic structure depending upon firing temperature. When both polymorph $BAS:Eu^{2+}$ were baked in air at 500 $^{\circ}C$ for 30 min, the photoluminescence (PL) intensity of $monoclinic-BAS:Eu^{2+}$ was maintained of the initial intensity. However, the PL intensity of $hexagonal-BAS:Eu^{2+}$ decreased significantly, corresponding to about 34 %. From analyses of Rietveld refinement, the difference of thermal stability of both $BAS:Eu^{2+}$ can be ascribed to both crystal structure of host materials and the average interatomic distances between $Eu^{2+}$ ion and oxygen their crystal structure which plays a key role of shield for Eu2+ ions against oxidation atmosphere.

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