Micro-Plasma Device Utilizing SU-8 Photoresist as a Barrier Rib

Jhuo, Long-Cai; Kim, Sung-O

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: Jhuo, Long-Cai (Laboratory for Nanosystem and Plasma, Department of Photonics, Institute of Electro-Optical Engineering, National Chiao Tung University) Kim, Sung-O (Laboratory for Nanosystem and Plasma, Department of Photonics, Display Institute, National Chiao Tung University)

저널정보: 한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display

발행연도: 2006.1

수록면: 21 - 23 (3page)

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A newly designed micro-plasma device using SU-8 photoresist as a barrier rib has been successfully fabricated and characterized. Operating in neon gas at pressures from 300 to 800 Torr and having hexagonal structure, $5{\times}5$ arrays of micro-plasma device have been investigated. The driving voltage is lower than 250 V.

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Jhuo, Long-Cai

소속기관 Laboratory for Nanosystem and Plasma, Department of Photonics, Institute of Electro-Optical Engineer

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전기공학

논문수 1 이용수 0

Kim, Sung-O

소속기관 Laboratory for Nanosystem and Plasma, Department of Photonics, Display Institute, National Chiao Tun

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전기공학

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