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학술저널
저자정보
이승범 (단국대학교 화학공학과) 전길송 (단국대학교 화학공학과) 정래윤 (서안켐텍 중앙기술연구소) 홍인권 (단국대학교 화학공학과)
저널정보
한국공업화학회 공업화학 공업화학 제27권 제1호
발행연도
2016.1
수록면
21 - 25 (5page)

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리드프레임에 구리합금소재를 사용할 경우 구리이외의 고농도의 철, 니켈, 아연 등이 포함되며 여기서 발생되는 에칭폐액은 지정폐기물로 지정되어 있다. 따라서 본 연구에서는 전기도금용 산화구리(II)를 제조하기 위해 고농도 중금속을 함유한 리드프레임 에칭폐액의 맞춤형 정제과정을 설계하였다. 리드프레임 에칭폐액의 경우 중금속 함유량이 높아 이온교환수지법 단독으로는 중금속을 제거하는데 한계가 있었다. 따라서 본 연구에서는 물에 대한 용해도차를 이용한 환원-산화법을 연계하여 염화구리(I)을 제조한 후 산화제인 과황산나트륨을 이용하여 염화구리(II)로 재회수하는 방법을 사용하였다. 최적 환원제로는 하이드라진을 선택하였고, 최적 첨가량은 구리 1.0 mol당 1.4 mol이다. 환원-산화법과 이온교환수지법을 연결하여 중금속을 제거할 경우 3회 반복 시 $Fe^{3+}$ (4.3 ppm), $Ni^{2+}$ (2.4 ppm), $Zn^{2+}$ (0.78 ppm)로 전기도금용 산화구리(II) 제조용 원료로 사용이 가능할 것으로 사료된다.
#lead frame #etching wastes #reduction-oxidation method #ion exchange #hydrazine

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심연주 / 2010 / 폐산의 재활용 현황 및 관리 방안 / Korean Chemical Engineering Research(HWAHAK KONGHAK) 48(3):300~303 google schola M. Toyonage / 1982 / Etching technology for printed wiring boards and regeneration of etching solution / Jpn. Pract. Surf. Technol 29(12):561~570 google schola D. Pletcher / 1990 / Industrial Electrochemistry / Chapman & Hall :468~477 google schola 이호연 / 2013 / HCl과 H2O2를 이용한 폐 FeCl3 에칭액의 재생 / 공업화학 24(1):67~71 google schola D. M. Allen / 1986 / The Principle and Practices of Photochemical Machining and Photoetching / Adam Hilger Publication google schola

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