Optimum PVD installation depth for two-way drainage deposit

Chai, J.C.; Miura, N.; Kirekawa, T.; Hino, T.

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저자정보: Chai, J.C. (Department of Civil Engineering, Saga University) Miura, N. (Institute of Soft Ground Engineering, Co., Ltd.) Kirekawa, T. (Institute of Soft Ground Engineering, Co., Ltd.) Hino, T. (Institute of Lowland Technology, Saga University)

저널정보: 테크노프레스 Geomechanics & engineering Geomechanics & engineering 제1권 제3호

발행연도: 2009.1

수록면: 179 - 191 (13page)

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For a two-way drainage deposit under a surcharge load, it is possible to leave a layer adjacent to the bottom drainage boundary without prefabricated vertical drain (PVD) improvement and achieve approximately the same degree of consolidation as a fully penetrated case. This depth is designated as an optimum PVD installation depth. Further, for a two-way drainage deposit under vacuum pressure, if the PVDs are fully penetrated through the deposit, the vacuum pressure will leak through the bottom drainage boundary. In this case, the PVDs have to be partially penetrated, and there is an optimum installation depth. The equations for calculating these optimum installation depths are presented, and the usefulness of the equations is studied by using finite element analysis as well as laboratory model test results.

#prefabricated vertical drain #PVD) #ground improvement #vacuum consolidation #laboratory test #pre-loading #soft clayey deposit

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Chai, J.C.

소속기관 Department of Civil Engineering, Saga University

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Miura, N.

소속기관 Institute of Soft Ground Engineering, Co., Ltd.

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Kirekawa, T.

소속기관 Institute of Soft Ground Engineering, Co., Ltd.

주요연구분야 공학 > 기타공학 > 기타 공학

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Hino, T.

소속기관 Institute of Lowland Technology, Saga University

주요연구분야 공학 > 기타공학 > 기타 공학

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