Characterization and Application of DLC Films Produced by New Combined PVD-CVD Technique

Chekan, N.M.; Kim, S.W.; Akula, I.P.; Jhee, T.G.

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자료유형: 학술저널

저자정보: Chekan, N.M. (Physical-Technical Institute) Kim, S.W. (Korea Institute of Industrial Technology) Akula, I.P. (Physical-Technical Institute) Jhee, T.G. (Division of Materials Engineering, Hongik University)

저널정보: 한국열처리공학회 열처리공학회지 열처리공학회지 제23권 제2호

발행연도: 2010.1

수록면: 75 - 82 (8page)

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A new advanced combined PVD/CVD technique of DLC film deposition has been developed. Deposition of a DLC film was carried out using a pulsed carbon arc discharge in vapor hydrocarbon atmosphere. The arc plasma enhancing CVD process promotes dramatic increase in the deposition rate and decrease of compressive stress as well as improvement of film thickness uniformity compared to that obtained with a single PVD pulsed arc process. The optical spectroscopy investigation reveals great increase in radiating components of $C_2$ Swan system molecular bands due to acetylene molecules decomposition. AFM, Raman spectroscopy, XPS and nano-indentation were used to characterize DLC films. The method ensures obtaining a new superhard DLC nano-material for deposition of protective coatings onto various industrial products including those used in medicine.

#Pulsed arc plasma discharge #Combined PVD/CVD #Hydrocarbon added arc #Arc #Uniformity #Swan spectra

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Jhee, T.G.

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