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자료유형
학술저널
저자정보
Kim, Hyungtaek (Department of Advanced Materials Engineering Incheon National University) Park, Junhyung (Department of Advanced Materials Engineering Incheon National University) Yun, Gyeongah (Department of Advanced Materials Engineering Incheon National University)
저널정보
한국인터넷방송통신학회 International journal of advanced smart convergence International journal of advanced smart convergence 제7권 제4호
발행연도
2018.1
수록면
84 - 91 (8page)

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In this paper, we simulated three different HV systems and analyzed of each vacuum characteristics by VacCAD modelling. In each of modelled vacuum systems, selection of chamber materials, combination of rough pump with high vacuum pump and conductance of roughing line (diameter and length) were proposed as system variables. In the modelling of chamber materials, the pumping times to ultimate pressures of different chamber materials (stainless steel, aluminum) were compared by the variations of chamber volume. In this model, the effects of outgassing dependent on the chamber materials was also simulated and aluminum was estimated to optimum chamber materials. It was also obtained that modelling of vane and roots pump with diffusion pump and diameter, length of $50{\times}250$ [mm]roughing line were characterized as optimum variables to reach the ultimate pressure of 10E-7 [mbar] most effectively. Optimum design factors for vacuum characteristics of modelled vacuum system were achieved by VacCAD simulations. Feasibility of VacCAD as vacuum simulator was verified and applications of VacCAD expected to be increased to fields in vacuum needed.
#VacCAD #Simulation #Vacuum system modeling #Vacuum characteristics #Optimum design factor

목차

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참고문헌 (10)

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VacCAD Operation Manual google schola VECOR google schola 김형택 / 2013 / Analysis of High Vacuum System Based on the Applications of Vacuum Materials / Transactions on Electrical and Electronic Materials 14(6):334~338 dbpia Technology Sources Ltd. / 2001 / User’s Guide of VacSim[Multi] Simulator (manual) google schola Joo, Jang Hun / 2014 / Vacuum Technology for EUV Lithography / Vacuum Magazine 1(3):14~20 google schola

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