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자료유형
학술저널
저자정보
조용기 (한국생산기술연구원, 플라즈마응용팀) 김상권 (한국생산기술연구원, 플라즈마응용팀) 이원범 (한국생산기술연구원, 플라즈마응용팀) 김성완 (한국생산기술연구원, 플라즈마응용팀)
저널정보
한국열처리공학회 열처리공학회지 열처리공학회지 제20권 제2호
발행연도
2007.1
수록면
78 - 83 (6page)

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CrN coatings were deposited by cathodic arc ion plating method on the SKD11 steel substrates. Atmosphere temperature of $350^{\circ}C$, arc current of 90 A, nitrogen partial pressure of 1.0-5.3 Pa, and negative bias voltage of 30-135 V were selected. The characteristics of microstructure were investigated with XRD. Hardness, adhesion and friction coefficient measured by microhardness tester, scratch tester, and ball on disk tribometer. Microstructures depended on nitrogen partial pressure and bias voltage. The preferred orientation of the films was changed from (200) to (111) with decreasing pressure and increasing bias voltage. Adhesion properties related with microstructure, but microstructure changes slightly influenced on hardness and friction properties. The critical load.($Lc_1$) and hardness of CrN films deposited at 5.3 Pa, -30 V condition were 55 N(HF1), $2157{\pm}47\;Hk_{0.025}$. The friction coefficient were about 0.5 under dry condition.
#AIP #CrN #SKD11 #Structure change #Adhesion

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