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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.10
- 수록면
- 2,144 - 2,146 (3page)
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When facial masks are produced, various types of defects may appear on mask filters. These defects may include the hair of the inspectors and unexpected raw materials in the production processes. This paper proposes a new method for detecting anomaly regardless of the size and shape of defects. The proposed method uses two-step image processing to detect anomaly. The first step is to use Average Blurring on the mask filter image for image blurring. The most important thing in this step is ... 전체 초록 보기
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