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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
Hyunse Kim (Korea Institute of Machinery and Materials) Euisu Lim (Korea Institute of Machinery and Materials) Yanglae Lee (Korea Institute of Machinery and Materials)
저널정보
한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국생산제조학회지 Vol.31 No.3
발행연도
2022.6
수록면
147 - 153 (7page)
DOI
10.7735/ksmte.2022.31.3.147

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Megasonic cleaning has been used to clean contaminants from wafer surfaces in semiconductor production. This research developed a 3 MHz megasonic waveguide for cleaning processes in semiconductor industries. Firstly, a 1 MHz type was fabricated in aluminum (Al) and quartz, consisting of a lead zirconate titanate (PZT) actuator and a waveguide. A 3 MHz quartz waveguide was also fabricated based on the fabricated results, and its performance was tested. In the design process, finite element analysis was performed. As a result, the predicted value was 2.997 MHz, which agreed with the measured value of 2.995 MHz with a 0.1% error. Lastly, a particle removal efficiency (PRE) test was performed, and the results showed that 93.1% PRE was achieved at 8W power. Considering the acoustic pressure and the cleaning test results, the 3 MHz megasonic may help the removal of contaminants from wafer surfaces effectively.

목차

ABSTRACT
1. Introduction
2. Design of megasonic waveguides
3. Experiment
4. Conclusion
References

참고문헌 (0)

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