In Situ Heat Treatment of ZnO:Al Thin Films Fabricated by RF Magnetron Sputtering

김덕규

doi:https://doi.org/10.4313/JKEM.2017.30.5.307

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김덕규 (삼성전자)

저널정보: 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제30권 제5호

발행연도: 2017.5

수록면: 307 - 311 (5page)

DOI: https://doi.org/10.4313/JKEM.2017.30.5.307

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ZnO:Al thin films were deposited on glass substrate by RF magnetron sputtering followed by in situ heattreatment in the same chamber. Effects of in situ heat treatment on properties of ZnO:Al thin films wereinvestigated in this study. As heat treatment temperature was increased, crystal quality was improved first and thenit was deteriorated, surface roughness was decreased, and sheet resistance was also decreased. The decrease in sheetresistance was caused by increasing carrier concentration due to decreased surface roughness. The decrease in surfaceroughness resulted in increase of transmittance. Therefore, in situ heat treatment is an effective method for obtainingfilms with better electrical characteristics.

#ZnO:Al #RF magnetron sputtering #In situ heat treatment #Surface roughness

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X. Jiang / 2003 / Aluminum-doped zinc oxide films as transparent conductive electrode for organic light-emitting devices / Applied Physics Letters 83(9):1875~1877

Joachim Müller / 2004 / TCO and light trapping in silicon thin film solar cells / Solar Energy 77(6):917~930

Tadatsugu Minami / 1996 / New multicomponent transparent conducting oxide films for transparent electrodes of flat panel displays / Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 14(3):1689~1693

Tadatsugu Minami / 2008 / Present status of transparent conducting oxide thin-film development for Indium-Tin-Oxide (ITO) substitutes / Thin Solid Films 516(17):5822~5828

Neal R Armstrong / 2003 / Interface modification of ITO thin films: organic photovoltaic cells / Thin Solid Films 445(2):342~352

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