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학술저널
저자정보
김도희 (공주대학교) 주석영 (공주대학교) 이준호 (공주대학교) 김학용 (한국표준과학연구원) 양호순 (한국표준과학연구원)
저널정보
한국광학회 한국광학회지 한국광학회지 제34권 제2호
발행연도
2023.4
수록면
53 - 60 (8page)

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193 nm에서 반도체 전공정 검사 장치에 적용될 수 있는 반사 굴절 혼합 형식(카타디옵트릭)의 수치 구경(numerical aperture, NA) 0.6 대물렌즈를 설계하였다. 200 nm 공간 분해능 및 0.15 mm 이상의 시야를 확보하기 위하여, 먼저 렌즈 전체 배치를 포커싱 렌즈 그룹, 필드 렌즈 그룹 및 NA 변환 그룹으로 구성하였으며, 선행 그룹에 포커싱된 빔의 수치 구경 값을 필요 값, 즉 0.6으로 변환하는 기능을 수행한다. 총 11매의 광학 소자로 구성된 최종 설계는 모든 관측 시야에 대하여 λ/80 이하의 RMS 파면 수차를 만족하였다. 또한 고분해능 대물렌즈의 높은 환경 민감도로 인한 온도 변화에 따른 광학계 성능 해석 결과, ±0.1 ℃의 온도 변화에서도 목표 성능 이하로의 성능 저하가 확인되어 온도 변화에 따른 광학 보상이 반드시 필요하였다. 이에 초점면 이동을 보상자로 적용할 경우, 20 ± 1.2 ℃까지 RMS 파면 수차 변화량이 λ/30 이하로 목표 성능을 만족하여 실제 반도체 공정 환경에서도 이용이 가능함을 확인하였다.
#Catadioptric #Dual wavelengths #Objective lens #Numerical aperture #Semiconductor inspection #카타디옵트릭 #이중 파장 #대물렌즈 #개구수 #반도체 검사

목차

I. 서론
II. 설계 사양 선정
III. 설계
IV. 온도 민감도 분석
V. 결론
References

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