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Stainless steel used in the semiconductor industry requires high surface quality and corrosion resistance, making ultra-cleaning processes essential. This study investigated the effects of various electrolyte compositions with different ratios of phosphoric acid and sulfuric acid on the electropolishing performance and Cr/Fe ratio of stainless steel. As the phosphoric acid content increased, the optimal voltage range for maintaining stable current density narrowed, but surface roughness improved due to its oxidation-promoting effect. In contrast, higher sulfuric acid content resulted in limited improvements in surface quality and the Cr/Fe ratio. These findings present a method for optimizing electrolyte composition and passivation time to effectively enhance the surface quality and corrosion resistance of stainless steel required in the semiconductor industry.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References
참고문헌 (13)
참고문헌 신청
C. Ma, Z. Du, X. Wang, P. Zhou, Y. Zhao, Y. Hua, C. Su, T. Zhang, F. Wang, Corrosion of stainless steels and corrosion protection strategies in the semiconductor manufacturing industry: a review, Corrosion Reviews, 42 (2024) 127–161.
M. Seo, N. Sato, Surface characterization of stainless steels prepared with various surface treatments, Transactions of the Japan Institute of Metals, 21 (1980) 805–810.
G. Yang, B. Wang, K. Tawfiq, H. Wei, S. Zhou, G. Chen, Electropolishing of surfaces: theory and applications, Surface Engineering, 33 (2017) 149–166.
W. Han, F. Fang, Fundamental aspects and recent developments in electropolishing, International Journal of Machine Tools and Manufacture, 139 (2019) 1–23.
D. Landolt, Fundamental aspects of electropolishing, Electrochimica Acta, 32 (1987) 1–11.
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