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이용수0
2013
1. 서 론1.1 연구 배경 및 목적 11.2 연구 방법 및 범위 32. 이론적 배경2.1 건식 PVD 프로세스에 의한 표면처리 62.1.1 진공 및 플라즈마의 이용 62.1.2 건식 PVD 프로세스 종류와 특징 82.2 코팅 박막의 형성 152.2.1 박막의 개요와 특징 152.2.2 박막의 형성 메커니즘 162.3 내식성 표면처리강판 182.3.1 전기화학적 부식 182.3.2 내식성 표면처리 강판의 현황 263. 실험 방법3.1 코팅 막의 제작 293.1.1 실험 장치 293.1.2 시험편의 준비 313.1.3 막의 제작 및 열처리 313.2 제작 막의 분석 및 내식성 평가 353.2.1 표면 및 단면 모폴로지 분석 353.2.2 조성분포 분석 363.2.3 결정구조 분석 373.2.4 전기화학적 내식성 평가 374. 실험 결과 및 고찰4.1 Al과 Mg 막의 두께비 별 구조와 내식특성 424.1.1 Al-Mg 막의 모폴로지 관찰 424.1.2 Al-Mg 막의 조성분포 분석 454.1.3 Al-Mg 막의 결정구조 및 배향성 분석 494.1.4 Al-Mg 막의 두께비 별 구조와 내식특성 관계 534.2 열처리에 따른 Al-Mg 막의 구조와 내식특성 654.2.1 열처리에 따른 막의 모폴로지 및 조성분포 분석 654.2.2 열처리에 따른 막의 결정구조 분석 674.2.3 열처리에 따른 Al-Mg 막의 구조와 내식특성 관계 695. 결 론 74참고 문헌 76
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