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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 지도교수
- 김철성, 고태준
- 발행연도
- 2014
- 저작권
- 국민대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
이용수1
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양극 산화 알루미나 템플레이트는 표면에 규칙적으로 배열되어 있는 나노미터 크기의 기공을 가지고 있으며, 이를 이용한 나노구조체의 제작에 있어 많은 관심을 끌고 있다. 이러한 나노구조체 제작함에 앞서 다공성 알루미나 템플레이트 제작 시 균일한 다공 구조 형성이 중요시 되며, 이 경우 보다 균일한 다공 구조를 형성함으로써 대면적 상에 균일한 나노구조체 제작의 가능성을 고려해 볼 수 있으리라 기대된다.
본 연구에서는 양극 산화 알루미나 템플레이트를 마스크로 이용하여 니켈 나노구조체를 제작을 시도하였으며, 보다 균일한 나노구조체 제작을 위해 다공성 알루미나 템플레이트 제작시 후면부의 산화 알루미늄 층을 제거하여 대면적 상에 보다 균일한 다공 구조를 형성할 수 있었다.
제작된 나노구조체는 나노점과 나노링이며, 우선적으로 니켈 나노점은 2 μm 두께와 평균 279 nm 크기의 기공구조를 가지는 다공성 알루미나 템플레이트를 마스크로 이용하여 제작되었다. 형성된 니켈 나노점의 크기는 평균 293 nm의 크기를 가지고 있으며 다공성 알루미나 템플레이트의 기공 구조의 형상을 따르고 있음을 볼 수 있었다. 제작된 나노점 구조의 자기적 특성을 상온에서 자기 이력곡성의 측정을 통해 살펴 보았으며 연속적인 니켈 박막과 비교하였을 때 고립된 나노점 구조로 인하여 자화용이축을 따라 각형비의 감소와 보자력의 증가가 나타남을 관찰할 수 있었다. 본 연구를 통해 양극 산화 막을 마스크로 이용한 박막 증착 과정을 통해 균일한 자기 나노점 구조를 제작할 수 있음을 확인할 수 있었다.
또한 나노링 구조의 제작을 위해 식각종횡비 혹은 입사각을 이용한 두가지 나노링 공정 방식을 제시하였으며, 제시된 방법에 따라 니켈 나노링 구조의 제작을 실험적으로 시도하였다. 제작된 나노링 구조의 표면은 전자현미경으로 확인되었으며, 그 결과 나노링 내에 나노점 형성 및 나노링 간의 연결 문제가 대두됨을 알 수 있었고 이를 해결하기 위해 보다 다양한 공정 방식 개발이 요구된다. 본 연구에서는 다공성 알루미나 템플레이트를 이용한 나노구조체 형성에 있어 새로운 접근을 시도하였으며, 앞으로 다공성 알루미나 템플레이트의 다양한 응용성에 도움이 되리라 기대된다.
본 연구에서는 양극 산화 알루미나 템플레이트를 마스크로 이용하여 니켈 나노구조체를 제작을 시도하였으며, 보다 균일한 나노구조체 제작을 위해 다공성 알루미나 템플레이트 제작시 후면부의 산화 알루미늄 층을 제거하여 대면적 상에 보다 균일한 다공 구조를 형성할 수 있었다.
제작된 나노구조체는 나노점과 나노링이며, 우선적으로 니켈 나노점은 2 μm 두께와 평균 279 nm 크기의 기공구조를 가지는 다공성 알루미나 템플레이트를 마스크로 이용하여 제작되었다. 형성된 니켈 나노점의 크기는 평균 293 nm의 크기를 가지고 있으며 다공성 알루미나 템플레이트의 기공 구조의 형상을 따르고 있음을 볼 수 있었다. 제작된 나노점 구조의 자기적 특성을 상온에서 자기 이력곡성의 측정을 통해 살펴 보았으며 연속적인 니켈 박막과 비교하였을 때 고립된 나노점 구조로 인하여 자화용이축을 따라 각형비의 감소와 보자력의 증가가 나타남을 관찰할 수 있었다. 본 연구를 통해 양극 산화 막을 마스크로 이용한 박막 증착 과정을 통해 균일한 자기 나노점 구조를 제작할 수 있음을 확인할 수 있었다.
또한 나노링 구조의 제작을 위해 식각종횡비 혹은 입사각을 이용한 두가지 나노링 공정 방식을 제시하였으며, 제시된 방법에 따라 니켈 나노링 구조의 제작을 실험적으로 시도하였다. 제작된 나노링 구조의 표면은 전자현미경으로 확인되었으며, 그 결과 나노링 내에 나노점 형성 및 나노링 간의 연결 문제가 대두됨을 알 수 있었고 이를 해결하기 위해 보다 다양한 공정 방식 개발이 요구된다. 본 연구에서는 다공성 알루미나 템플레이트를 이용한 나노구조체 형성에 있어 새로운 접근을 시도하였으며, 앞으로 다공성 알루미나 템플레이트의 다양한 응용성에 도움이 되리라 기대된다.
목차
제 1장 서론 1제 2장 양극 산화법을 이용한 다공성 산화 알루미늄 피막의 제작 4제 1 절 이론적 배경 4제 2 절 다공성 알루미나 피막의 제작 7제 3 절 다공성 알루미나 피막을 이용한 템플레이트 제작 10제 3 장 다공성 알루미나 템플레이트를 이용한 나노구조체 제작 21제 1 절 열 증착법 22제 2 절 다공성 알루미나 템플레이트를 이용한 니켈 나노점 제작 24제 3 절 니켈 나노점의 표면 및 자기적 특성 25제 4 절 다공성 알루미나 템플레이트를 이용한 니켈 나노링 제작 방법 364-1. 식각종횡비를 이용한 나노링 제작 방법 364-2. 입사각을 이용한 나노링 제작 방법 44제 4 장 결과 및 논의 54Reference 57
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