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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 발행연도
- 2015
- 저작권
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이용수1
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본 연구에서는 듀플렉스 스테인리스강 용접부에서 Si첨가량과 시효시간에 따른 2차상 및 탄화물의 형성이 입계부식 및 공식에 미치는 영향을 규명하였다. 22Cr-9Ni-3Mo를 기본조성으로 Si함량(0.9wt%, 1.8wt%)을 달리하여 FCA 용접을 실시한 시편을 850℃에서 15, 30, 60, 120, 240분간 시효처리 하였다. 시효시간이 길어질수록, 2차상 및 탄화물이 많이 형성되었다. Si의 영향으로 석출된 탄화물의 양은 Si의 함량증가 함에 따라 감소하였으며, 2차상(χ, σ)의 석출양은 증가하였다. DL-EPR test를 통해 입계부식 저항성을 평가하였으며, 그 결과 형성된 2차상 및 탄화물의 양이 많을수록 예민화가 많이 진행되었다. 하지만 동시간 시효 처리한 Si함량이 다른 두 시편은 Si의 첨가에 의해 형성된 산화피막에 의해 Si이 증가할수록 예민화도가 감소하였다. 입계부식이 일어나는 위치를 관찰하기 위해 DL-EPR test후 표면을 SEM을 통해 관찰한 결과 2차상 및 탄화물에 의해 주위에 형성된 크롬결핍지역에서 Austenite상을 둘러싸며 입계부식이 관찰되었다. 동전위 분극실험을 통해 공식 특성을 관찰하였으며, 시효시간의 증가에 따라 Epit값은 감소하였다. 공식은 최초 δ상과 γ상의 경계에서 형성되어 δ상 쪽으로 성장하였으며, 이는 시효처리에 의해 δ내의 Cr, Mp, Mn함량 변화에 따라 PREN이 감소하였기 때문이다. 60분 이상 장시간 시효처리 시에는 공식보다 입계부식이 우선적으로 형성되었으며, 이에 따라 Epit값은 일정한 값이 관찰되었다. XPS 측정결과 1.8Si 시편에서는 passive film과 metal 사이에서 Si 산화물층이 관찰되었으나, 0.9Si 시편에서는 Si 산화물 층이 형성되지 않았다.
목차
Ⅰ. 서 론 1Ⅱ. 실험방법 31. 용접재료 및 용접방법 32. 시효처리 및 FN 측정 33. 미세조직 관찰 44. 상 성분 분석 45. 전기화학 실험 46. XPS 5Ⅲ. 실험결과 및 고찰 101. 미세조직 관찰 102. 상 분율 분석 (EBSD) 163. 입계부식저항성 224. 공식저항성 335. XPS 40Ⅳ. 결 론 44참고문헌 46Abstract 51
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