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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 발행연도
- 2015
- 저작권
- 군산대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
이용수6
이 논문의 연구 히스토리 (4)
2014
QMS와 ICCD-OES를 이용한 모듈레이티드 펄스 스퍼터링 방법으로 증착한 Indium-Tin-Oxide (ITO)박막 공정 분석
유영군
,
주정훈
한국진공학회 학술발표회초록집
2014.08
학술대회자료
모듈레이티드 펄스 스퍼터링으로 상온 증착한 Indium-Tin-Oxide (ITO) 나노 박막
유영군
,
정진용
,
주정훈
한국표면공학회지
2014.06
학술저널
MPP (modulated pulse plasma) 스퍼터링 방법으로 증착한 100 nm 이하에서의 Indium-Tin-Oxide (ITO)박막 특성
유영군
,
정진용
,
주정훈
한국진공학회 학술발표회초록집
2014.02
학술대회자료
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HIPIMS는 짧은 주기 안의 peak power 밀도로 잘 알려진 기술이다. 그래서 높은 이온화 스퍼터링 비율은 향상하는 특성과 자기특성 이온 박막 증착 과정의 코팅을 개선하는 부냥의 다양한 스퍼터 된 종의 더 높은 이온화를 만들 수 있다. 그러나 HIPIMS의 증착 속도는 DC에 비해 느리다는 것이 단점이다. 최근 HIPIMS를 대체하는 MPP가 개발되어 오고 있다. 스퍼터 된 종의 이온화 비율이 증가할 수 있으며, 증착률은 보고된 문제를 같은 시간에 극복할 수 있다. MPP와 HIPIMS의 차이점은 HIPIMS는 간단한 단일 펄스인 반면 MPP는 3 ms 펄스 길이가 조절 가능하며, 펄스 주기 안에 다양한 펄스가 가능하다. 그리고 펄스는 micro 장점이 될 수 있다. 실험에서 타겟 9:1 wt%의 조성비는 사용되고 있다. Ar : O₂ 실온에서 움직이게 되는 증착 비의 비율은 4.8 ~ 13%이다. O₂ 유량빌르 2~6 sccm 그리고 Ar 40 sccm을 고정시키고 비교하였다. 박막 증착의 두께는 60nm로 고정하였다. Ar:O₂의 분압이 9.1% 일 때 비저항 값은 4.565 × cm, 투과도는 86.6%, 이동도는 32.29 cm²/v·sec의 값을 얻을 수 있었다.
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