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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 지도교수
- 박정호
- 발행연도
- 2016
- 저작권
- 고려대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
이용수1
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Sub-micron silicon strip waveguides on silicon dioxide substrates(SOI) have recently attracted a lot of attention and are currently under study by several research groups. such waveguides allow for the fabrication of extremely compact photonic circuits based on standard CMOS processing.
Effective index method is used to analyze single-mode waveguide condition The device is designed on a 250nm thick SOI waveguide with a width of 350nm. FDTD simulation was used to simulate properties and dimension of waveguide. 350250nm waveguides effective index 2.234. For strong light confinement, We fabricated strip waveguide structure by e-beam lithography. Waveguide optical confinement, electrical distribution is 95.9% and 75%. waveguide characteristic analyze using optical measurement system. using beam-profiler analyzed optical beam shape and cut-back method measure propagation loss.
The waveguide results in a propagation loss of 4.46dB/cm
Effective index method is used to analyze single-mode waveguide condition The device is designed on a 250nm thick SOI waveguide with a width of 350nm. FDTD simulation was used to simulate properties and dimension of waveguide. 350250nm waveguides effective index 2.234. For strong light confinement, We fabricated strip waveguide structure by e-beam lithography. Waveguide optical confinement, electrical distribution is 95.9% and 75%. waveguide characteristic analyze using optical measurement system. using beam-profiler analyzed optical beam shape and cut-back method measure propagation loss.
The waveguide results in a propagation loss of 4.46dB/cm
목차
목 차제 1 장 서 론 11.1 실리콘 기반 광도파로 필요성 11.2 나노 사이즈 광도파로의 실리콘 광변조기 응용 2제 2 장 이론적 배경 32.1 광도파로 이론 32.1.1 광도파로의 모드 32.1.2 광도파로의 구조 112.1.3 광도파로의 손실 122.2 modulator 142.2.1 자유전하 분산 효과 142.2.2 자유전하 분산 효과를 이용한 광변조기 18제 3 장 설계 및 공정 213.1 사이즈에 따른 캐리어 공핍 변조기에서의 변조 효율 213.2 실리콘 기반 나노 사이즈 광도파로 설계 273.3 e-beam lithography를 이용한 광도파로 공정 39제 4 장 측정 및 분석 434.1 광도파로의 특성 측정 434.1.1 광측정 시스템 구현 434.1.2 출력광의 모드 프로파일 454.2 광도파로의 광학적 특성 분석 464.3 나노사이즈 광도파로에서의 변조 효율 49제 5 장 결론 52참 고 문 헌 54
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