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Chapter 1. 서론 1Chapter 2. 이론적 배경 42.1. III-nitride 기반 LED 효율 42.2. Quantum-confined Stark Effect 62.3. 높은 Indium 조성을 갖는 InGaN 성장 특성 92.4. References 12Chapter 3. 실험방법 143.1. Thomas-swan Metal-organic chemical-vapor deposition (MOCVD) 박막 성장 장비 143.2. 구조적 특성평가 183.2.1. Transmission Electron Microscopy (TEM) 183.2.2. High-resolution X-ray Diffraction (HRXRD) 183.3. 광 및 전기적 특성 평가 213.3.1. Photoluminescence Spectroscopy (PL) 213.3.2. Fluorescence Microscopy (FM) 213.3.3. Time-resolved Photoluminescence (TRPL) 223.3.4. Electroluminescence Microscopy (EL) 22Chapter 4. 결과 및 고찰 254.1. Ga-flow Interruption (Ga-FI) 성장법을 이용한 높은 Indium 조성을 갖는 InGaN 성장 254.2. HI-InyGa1-yN 우물 영역에서 Indium 조성에 따른 Ga-FI-LED의 광 및 구조적 특성 284.3. InxGa1-xN 장벽층의 In/Ga flow 비율에 따른 Ga-FI-LED광 및 구조적 특성 334.4. 언덕형 굴절률 Superlattice 구조를 이용한 Ga-FI LED광특성 향상 434.5. References 49Chapter 5. 결론 51Abstract (Korean) 52Acknowledgements (감사의 글) 55
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