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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 지도교수
- 배진영
- 발행연도
- 2017
- 저작권
- 성균관대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
이용수3
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본 연구는 유기 절연막에 적용 가능한 새로운 네거티브 타입 광경화형 에폭시 변성 아크릴레이트의 합성 및 그 특성에 대해 살펴보았다. 우선, 축합반응을 통해 바이닐기를 지닌 다이에스터 산을 합성하였다. 이를 위해 다양한 하이드록시 아크릴모노머를 사용하였으며 추가적으로 개환반응을 통해 에폭시 화합물로 변성시켰다. GPC, FT-IR, 1H-NMR 그리고 산가 측정을 하여 바인더의 구조 및 특성을 관찰하였다. 그리고 나서 필러로 선정한 NANOBYK-3650 와 합성한 바인더와의 혼화성을 살펴보았다.
네거티브 타입 광경화형 에폭시 변성 아크릴레이트의 최적의 구성비를 선정하였고 그 바인더와 실리카 함량에 따른 투과율, 패턴성 그리고 전기적 특성(유전 특성)에 대해 살펴보았다. 적합한 해상도, 투과도, 저유전 그리고 내열성을 지닌 SiO2 레지스트를 확인 할 수 있었다.
네거티브 타입 광경화형 에폭시 변성 아크릴레이트의 최적의 구성비를 선정하였고 그 바인더와 실리카 함량에 따른 투과율, 패턴성 그리고 전기적 특성(유전 특성)에 대해 살펴보았다. 적합한 해상도, 투과도, 저유전 그리고 내열성을 지닌 SiO2 레지스트를 확인 할 수 있었다.
목차
제1장 서 론1. 연구배경가. 기능성 코팅재료의 시장 분석 및 전망나. 절연재료에 대한 전자산업에서의 필요성다. 절연재료 기술 현황2. 이론적 배경가. 감광성 재료나. 에폭시 아크릴레이트1) 아크릴레이트의 특성2) 아크릴레이트계 시스템3. 연구 목적제2장 실 험1. 시약 및 재료2. SiO2 레지스트용 바인더 합성 및 특성 분석가. SiO2 레지스트용 바인더의 합성1) 방향족 무수물 기반의 Diesteric acid(DA) 유도체의 합성2) 방향족 무수물 기반의 에폭시 변성 아크릴레이트의 합성가) GMA를 이용한 에폭시 변성 아크릴레이트의 합성나) DGEBA를 이용한 에폭시 변성 아크릴레이트의 합성나. Photolithography 공정1) Negative type Photoresist 제조3. 측정 기기 및 분석가. 화학적 특성1) Acid value 측정나. 표면적 특성다. 열적 특성라. 전기적 특성제3장 결과 및 고찰1. 방향족 무수물 기반의 Diesteric acid(DA)의 합성 및 SiO2 혼화성 평가가. 방향족 무수물 기반의 Diesteric acid(DA)의 합성 확인나. 방향족 무수물 기반의 Diesteric acid(DA)와 SiO2 혼화성 평가1) 저유전 첨가 재료 (SiO2)2) NANOBYK-3650 과의 혼화성 평가2. 방향족 무수물 기반의 에폭시 변성 아크릴레이트의 합성 및 SiO2혼화성 평가가. 에폭시 변성 아크릴레이트의 합성 확인나. 에폭시 변성 아크릴레이트와 NANOBYK-3650 의 혼화성 평가3. SiO2 함유 Photolithographic 공정 및 특성가. 표면구조 및 패턴형성 분석나. 열적, 전기적 특성 분석제4장 결 론제5장 참 고 문 헌
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