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논문 기본 정보

자료유형
학위논문
저자정보

강명식 (대진대학교, 대진대학교 대학원)

지도교수
안재우
발행연도
2017
저작권
대진대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

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국문 요지
인쇄회로기판(PCB)의 세정공정에서 발생되는 염산 및 황산 폐액 내의 저농도 주석은 일반적인 전해채취, 침전 및 용매추출의 경우 회수율이 저하된다는 단점이 있다. 하지만 최근 저농도 용액으로 물질이동을 촉진시키는 사이클론 장치의 효과을 이용하여 저농도 용액에서의 유가금속을 효과적으로 회수하는 방법으로 각광받으면서 국내에서도 연구가 활발하게 진행되고 있다. 본 실험에서는 개조된 사이클론식 전해조를 이용하여 염산 및 황산 폐액 내의 주석을 금속 주석으로 회수하기 위해 주석의 전해채취 거동을 조사하였다. Faraday 법칙을 이용한 이론적 석출량과 실제 석출량을 비교하여 주석의 석출율을 계산하였으며 인가전류와 용액 내 주석 이온농도의 관계식을 이용하여 전류효율을 계산하였다. 또한, XRD를 이용하여 석출물의 화학적 결합상태를 분석하였으며 실험 변수는 유속의 영향, 산화방지제 농도, 전류밀도, 전해질 용액의 산 농도 및 주석 농도로 하여 실험을 진행하였다.
먼저 유속을 각각 6, 12, 18L/min으로 변화시켜 주석의 석출율 및 전류효율을 분석하였다. 유속이 증가할수록 주석의 석출율 및 전류효율이 증가하였으며 이 때, 황산 용액에서의 석출율은 최대 약 87%, 염산에서의 석출율은 약 29%를 나타내었다.
산화방지제의 경우 투입량이 증가할수록 오히려 석출율 및 전류효율이 감소하였다. 이는 산화방지제가 전류밀도 및 한계전류밀도를 감소시키는 특성 때문에 전류효율을 감소시켜 결국 석출율이 감소한다고 판단된다.
전류밀도를 각각 1, 3, 6A/dm2으로 변화시킨 결과 전류밀도가 증가함에 따라 주석의 석출율이 증가하였으며 특히 황산 용액에서의 6A/dm2에서는 약 88%의 석출율을 나타내었다. 하지만 전류밀도가 증가할수록 전류효율이 감소하여 주석의 회수량 및 전류효율을 동시에 고려하며 이 때 최적의 조건은 3A/dm2이다.
주석 및 산 농도의 경우 농도가 증가할수록 석출율 및 전류효율이 감소하는 경향을 나타내고 있으며 특히 염산 용액의 주석 농도 2.5g/L에서 약 60%의 주석이 석출되었다. 이는 저농도 용액에서 물질이동이 촉진되는 사이클론 전해조의 특성을 잘 나타내고 있다.
각 용액에서 환원된 석출물의 형태를 비교하였다. 황산 용액에서의 석출물은 모두 분말형으로 석출된 반면에 염산 용액에서의 석출물은 분말형 및 판형으로 석출되었다. 또한 XRD를 이용하여 석출물의 화학적 결합상태를 분석한 결과 모든 조건의 XRD peak가 일치하였으며 주석 단일금속으로 환원되는 것을 확인하였다.
황산 및 염산 용액에서의 전해채취를 비교한 결과 염산 용액에서의 초기 전류효율은 대부분 50% 미만이었으나 황산 용액에서는 평균적으로 70% 이상을 나타내었다. 주석의 석출율의 경우 염산 용액의 석출율은 20%대를 보이고 있으나 황산 용액에서는 대부분 50% 이상의 석출율을 나타내고 있다. 따라서 황산 용액에서의 주석의 전해채취가 더 적합한 조건임을 확인하였다.

목차

국문요지 i
Ⅰ. 서론 1
Ⅱ. 이론적 배경 4
1. 전해채취 4
2. 사이클론 전해조 6
3. 주석의 전해반응 Mechanism 10
Ⅲ. 실험 재료 및 방법 11
1. 실험 재료 11
2. 실험 방법 및 분석 13
Ⅳ. 실험 결과 및 고찰 14
1. 황산 용액으로부터의 주석의 전해채취 14
가. 유속의 영향 14
나. 산화방지제의 영향 18
다. 전류밀도의 영향 22
라. 주석 농도의 영향 26
마. 황산 농도의 영향 30
바. 석출물의 화학적 형태 34
2. 염산 용액으로부터의 주석의 전해채취 35
가. 유속의 영향 35
나. 산화방지제의 영향 39
다. 전류밀도의 영향 43
라. 주석 농도의 영향 47
마. 황산 농도의 영향 51
바. 석출물의 화학적 형태 55
Ⅴ. 결론 56
참고문헌 58
Abstract 62

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