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논문 기본 정보

자료유형
학위논문
저자정보

김환기 (전남대학교, 전남대학교 대학원)

지도교수
이현용
발행연도
2017
저작권
전남대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.

이용수4

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

초록· 키워드

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본 논문은 UV 임프린트 공정을 이용한 고분자 기반 집적화된 소형의 분광모듈 구현을 위한 구조설계 및 제작에 관한 연구이다. 분광모듈에서 제안된 평면 구조의 나노회절격자 및 평판형 광도파로는 UV 나노임프린트 공정으로 제작이 가능하도록 최적 설계되었다. UV 임프린트 공정으로 제작하기 위한 평면구조의 나노회절격자는 회절격자로부터 반사된 빛을 집광하기 위하여 비등간격 구조로 설계 되었으며, 400 ㎚에서 650 ㎚까지의 파장 대역폭에서 균등한 분해능을 가지도록 비대칭 V 홈 구조를 가지도록 설계되었다. 그리고 분광모듈에서 평판형 광도파로부는 광정렬이 용이하도록 가이드핀 및 오목거울을 포함하여 소형화된 집적형 분광모듈 구현이 가능하도록 최적 설계 되었다. 최적 설계된 분광모듈을 저가, 대량 생산에 적합한 Ultra violet nano imprint lithography(UV-NIL)공정을 통해 제작하기 위하여 FT-IR흡수스펙트럼을 분석하였으며, 이를 통해 최적의 경화조건에서 5 ㎚ 이내의 치수 정밀도를 가진 고분자 기반 나노회절격자와 평판형 광도파로부를 제작 할 수 있었다. 그리고 집적화된 분광모듈은 250 ㎚의 파장 대역폭에서 각 파장별 Peak 기준으로 5 ㎚의 균등한 파장분해능을 확인하였으며, 이는 다양한 분광모듈의 적용분야에 적용될 것으로 기대된다.

목차

목차 i
국문초록 ii
1. 서론 1
2. 평판형 광도파로 기반 집적형 분광모듈 설계 3
가. 평판형 광도파로 기반 집적형 분광모듈 구조 3
나. 비등간격 구조의 평면 나노회절격자 구조 설계 4
1) 비등간격 나노회절격자 설계 4
2) 나노회절격자 표면 형상 설계 7
다. 광 정렬 가이드용 평판형 광도파로 설계 10
3. UV 임프린트 공정에 의한 분광모듈 제작 13
가. UV 임프린트 리소그래피의 원리 13
나. UV 임프린트 공정에 의한 고분자 기반 나노회절격자 제작15
1) UV 임프린트용 고분자 스탬프 제작 15
2) UV 임프린트 최적 경화조건 연구 22
3) 고분자 기반 나노회절격자 제작 26
다. UV 임프린트 공정에 의한 고분자 기반 평판형 광도파로부 제작 31
1) 광도파로부 원형 금형 제작 31
2) UV 임프린트용 고분자 스탬프 제작 33
3) 고분자 기반 광도파로부 제작 34
라. 집적화된 단일 칩 형태의 분광모듈 패키징 공정기술개발 37
4. 집적화된 고분자 기반의 분광모듈 특성 평가 40
5. 결론 43
참고문헌 44
영문초록 45

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