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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 지도교수
- 위정재
- 발행연도
- 2021
- 저작권
- 인하대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
이용수5
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황 고분자는 중파장 적외선 영역에서의 높은 굴절률과 높은 투과율을 나타내며, 손상된 제품의 재사용을 가능하게 하는 자가 치유 특성으로 인해 중파장 적외선 광학 분야에서 큰 잠재력을 나타낸다. 최근 황 고분자 기반 중파장 적외선 편광기는 알루미늄, 저마늄, 징크셀레나이드, 징크설파이드 등으로 구성된 상업용 무기물 중파장 적외선 편광기 대비 높은 소광비(편광 성능의 지표)를 나타내는 것으로 보고되었다. 하지만 부정확하게 정의된 나노 구조와 최적화되지 않은 황 고분자 스페이서 두께는 투과 효율의 극대화를 저해하여 광학 성능을 억제한다. 본 연구는 황 고분자의 스페이서 두께를 조정하고 각각 400 nm의 격자 피치와 200 nm의 격자 폭과 높이로 정확하게 정의된 나노 구조를 제작했다. 패브리 페롯 공동 공명을 생성하기 위해 필요한 황 고분자의 스페이서 두께는 스핀코팅 및 열 나노 임프린트 리소그래피로 제어했다. 또한 황 고분자의 점탄성을 고려하여 고해상도 나노 구조 제작을 위한 임프린팅 스탬프 재료, 압력, 온도 및 시간을 포함한 공정 파라미터의 체계적인 최적화를 진행했다. 스페이서 두께가 조절된 고해상도 황 고분자 나노 격자는 기존 황 고분자 기반 중 파장 적외선 편광기에 비해 강화된 중 파장 적외선 광학 성능을 나타낼 수 있는 큰 잠재력을 보여준다.
목차
1. Introduction 12. Materials and Method 52.1 Synthesis of sulfur polymer with 40 wt% sulfur (S40-polymer) 52.2 Preparation of S40-polymer thin film 52.3 Preparation of nanoimprinting stamp (OrmoStamp/PET stamp) 72.4 Preparation of S40-polymer nanogratings 73. Results and Discussion 83.1 Preparation of S40-polymer nanogratings 83.2 Optimization of nanoimprinting stamp 123.3 Optimization of nanoimprinting pressure 153.4 Optimization of nanoimprinting temperature 183.5 Optimization of nanoimprinting time 233.6 Analysis of sulfur-based-polymer nanogratings 254. Conclusion 305. Reference 31
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