지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 지도교수
- 김상완
- 발행연도
- 2022
- 저작권
- 아주대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
이용수18
이 논문의 연구 히스토리 (2)
- 이 논문의 후속연구가 궁금하신가요?
- 연관 학술논문 또는 학술발표를 통해 보다 발전된 연구결과를 확인하실 수 있습니다.
- 이 논문의 연구 히스토리 확인하기
초록· 키워드
오류제보하기
본 연구에서는 향상된 tunneling electro-resistance (TER) ratio를 구현하기 위해 high-k 물질을 절연체 박막으로 적용한 금속-강유전체-절연막-금속(metal-ferroelectric-insulator-metal: MFIM) 구조의 ferroelectric tunnel junction (FTJ) 소자를 제작 후 측정 및 분석하였다. High-k 물질로는 HfO2와 ZrO2를, 강유전체 박막으로는 Hf과 Zr이 약 1:1 비율로 구성된 Hf0.5Zr0.5O2 산화막을 활용했다. 그 결과, erase 전류는 절연막의 종류와 상관없이 일정한 반면, write 전류는 절연막의 유전율에 비례하는 경향을 보였다. 그 이유로는 물질별로 절연막과 Hf0.5Zr0.5O2가 이루는 band offset이 상이하고 유전율의 차이가 잔류 분극 (remnant polarization: Pr)에 영향을 미치기 때문이다. 결과적으로, FTJ의 on/off 성능을 나타내는 TER ratio가 대조군인 Al2O3 대비, ZrO2일 때 3.9배 그리고 HfO2의 경우 2.2배 향상된 성능을 보였다.
목차
제1장 서론 1제2장 강유전체 산화막 6제1절 강유전체 특성 6제2절 하프늄-지르코늄 산화막 9제3절 다양한 메모리 application 12제3장 소자 제작 방법 및 설계 18제1절 Atomic Layer Deposition (ALD) 18제2절 소자 제작 과정 23제4장 측정 결과 및 분석 26제1절 MFM 특성분석 및 측정 결과 26제2절 MFIM 특성분석 및 측정 결과 36제3절 절연체 물질에 따른 FTJ 특성 분석 45제5장 결론 54참고문헌 55List of publications 61Abstract 62
최근 본 자료
댓글(0)
0