A Silicon Containing Resist for KrF Excimer Laser Lithography

박상진 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Excimer Laser Lithography Equipment

이종현

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Quarter-Micron Lithography 개발 현황 및 향후 Advanced Lithography 기술 전개 방향

허훈

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

KrF excimer laser 열처리를 이용하여 만들어진 확산 n+/p 접합에서 2차원적 불순물 분포에 관한 연구

최철종 ,  한명근 ,  이성훈 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2001 .01

Illumination Condition and Mask Bias for 0.18 mm Pattern with KrF Lithography

H. Tabuchi ,  Y. Shichijo ,  I. Okabe 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Wafer auto-Focus System for Sub-quarter Micron Lithography Tools

김도훈 ,  이각현 ,  정해빈 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Antireflective Coating of Fluorinated Silicon Nitride for KrF Excimer Laser Lithography

전병혁 ,  한상수 ,  이준성 외 5명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

ArF Excimer Laser Lithography

Masa ,  u Sasago

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Quarter Micron Device 이후 동향

이경호 ,  김준희

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

방전여기 KrF 엑사이머 레이저의 증폭특성 ( A Study of Amplification for Discharge Excited KrF Excimer Laser )

김수경 ,  최부연 ,  이주희

대한전자공학회 학술대회

1990 .01

Resist Development Process for Sub-0.15 mm Lithography by KrF Imaging

K. Matsunaga ,  D. Kawamu ,  a 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

표면예비전리 방식을 사용한 KrF 엑사이머 레이저의 개발

박홍진 ,  이주희

대한전기학회 학술대회 논문집

1990 .07

전자빔 여기 KrF 레이저 특성에 관한 연구 (Ⅱ)

최부연 ,  이주희

대한전기학회 학술대회 논문집

1985 .07

방전여기 KrF 엑사이머 레이저의 예비전리 영향에 관한 연구

김상욱 ,  최부연 ,  이주희

대한전기학회 학술대회 논문집

1990 .07

전자 빔 여기 KRF 레이저 특성에 관한 연구 ( 1 ) ( Characteristics of Electron Beam Excited KRF Laser ( 1 ) )

이영우 ,  이주희 ,  김웅

대한전자공학회 학술대회

1984 .01

Sub-Half Micron Optical Lithography with dry Development

백기호

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Silicon Containing Positive Resist for ArF Excimer Laser Lithography

이해원 ,  김영대 ,  강영종 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

Excimer laser를 이용한 글라스의 기계적 특성

이강택 ,  문필용 ,  진현주 외 2명

한국소성가공학회 학술대회 논문집

2005 .10

Silicon Containing Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

Young Dae Kim ,  Sang Jin Pa ,  k 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Lithographic Characteristics of the Exposure Technology Based on the Dummy Diffraction Mask

Yong Ho Oh ,  Hyung Joun Yoo

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1993 .01