Role of hydrogen plasma post-treatment : etching behavior of vertically aligned graphene nano walls by electron cyclotron resonance plasma

Jin-ha Shin ,  HyunJae Pa ,  k 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

The electron cyclotron resonance (ECR) at various conditions in the inductively coupled plasma(ICP)

정진욱 ,  김성식 ,  이상원 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .02

Surface Roughness and Defect Morphology in Low Temperature Electron Cyclotron Resonance Hydrogen Plasma Cleaned (100) Silicon

Ki-Hyun Hwang ,  Euijoon Yoon ,  Ki-Woong Whang 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

1995 .06

RIE Damage Remove Etching Process for Solar Cell Surface Texturing Using the TMAH Etching

오정화 ,  공대영 ,  조준환 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

Three-Dimensional Particle-in-cell Simulation of Electron Cyclotron Resonance Plasma with Belt-type Magnet Assembly

Hui Jea Lee ,  Seong Bong Kim ,  Suk Jae Yoo 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .02

The electron cyclotron resonance in a weakly magnetized radio frequency inductive discharge

정진욱 ,  김성식 ,  장홍영

한국진공학회 학술발표회초록집

2000 .07

RIE에서 C₃F₆ 가스를 이용한 Si₃N₄ 식각공정 개발

전성찬 ,  공대영 ,  정동건 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

Development of 28GHz superconducting electron cyclotron resonance ion source for neutron application facility

신창석 ,  이병섭 ,  최세용 외 8명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

SF6플라즈마를 이용한 텅스텐 실리사이드 식각공정에서의 미세 식각형성 특성에 관한 연구

이창덕 ,  박상규

Applied Science and Convergence Technology

1995 .03

100㎚급 이하 소자에서 Deep Small Contact Hole Etching시 선택비와 RIE - lag 에 관한 연구

여상원 ,  전정식 ,  지경구 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .06

Enhanced Light trapping Approaches utilizing ICP-RIE dry etching for high efficiency P-I-N Thin-Film Silicon Solar Cells

김명준 ,  김정수 ,  신동기 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Investigation of effect of rf bias frequency on plasma parameters in a remote inductively coupled plasma

Aixian Zhang ,  Moo-Young Lee ,  Ho-Jun Moon 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Non-Inductive Plasma Current Start-up Experiment by Electron Cyclotron Heating in the CPD Device

T. Yoshinaga ,  K. Hanada ,  K. Sato 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .08

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Oxygen Plasma Characterization Analysis for Plasma Etch Process

Pa ,  k ,  Jin-Su 외 2명

동굴

2007 .01

플라즈마 식각 공정에서의 미세구조 식각에 관한 이론적 연구

이창덕 ,  박상규

Applied Science and Convergence Technology

1994 .03

Reactive Ion Etching of NiFe Film with Organic Resist Mask and Metal Mask by Inductively Coupled Plasma

Tomomi Kanazawa ,  Shin-ichi Motoyama ,  Takayuki Wakayama 외 2명

Journal of Magnetics

2007 .06