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이용수
Abstract
1. 서론
2. 자화된 평판형 유도 결합 플라즈마의 특성
3. 결론
[참고문헌]
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자화된 플라즈마의 특성 및 식각에의 응용
대한전기학회 학술대회 논문집
1993 .11
자화된 유도 결합 열 플라즈마의 특성 연구
전기학회논문지
1993 .04
자화된 평판형 유도 결합 SF₆ 플라즈마의 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1995 .11
평판형 유도 결합 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .11
유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )
전자공학회논문지-SD
2001 .09
유도 결합형 열 플라즈마의 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1991 .11
자화 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성
전기학회논문지 C
2000 .04
평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성
전기학회논문지 C
1999 .09
유도 결합 플라즈마를 이용한 백금 박막의 건식 식각시 산소 가스 첨가 효과
전기학회논문지 C
1999 .06
Enhanced Inductively Coupled Plasma의 자화 주파수 의존 특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
$Cl_2/O_2$ 유도결합형 플라즈마 특성 및 실리콘 식각에의 응용
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
자화된 유도 결합형 플라즈마를 이용한 다이아몬드성 탄소박막 증착
대한전기학회 학술대회 논문집
1995 .11
평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각에서 공정 변수가 저항성 접촉 형성에 미치는 영향
전기학회논문지 C
2000 .08
Dry etching of BST thin films using inductively coupled plasma
대한전기학회 학술대회 논문집
2004 .11
유도결합형 플라즈마를 이용한 ITO 식각 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .05
Etching characteristics of Al-Nd alloy thin films using magnetized inductively coupled plasma
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .10
컷오프 탐침법을 이용한 자화유도결합 플라즈마 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2016 .07
컷오프 탐침법을 이용한 자화유도결합 플라즈마 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2016 .10
범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각
전기전자재료학회논문지
2004 .01
유체시뮬레이션을 통한 대면적 유도결합 플라즈마의 최적화 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2017 .10
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