ALD Growth of NiO thin films using Ni(DMAMP)₂And H₂O

조원태 ,  김민찬 ,  안기석 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .02

Solid - state Reactions in Ni / Si Multilayered Films, Investigated by Optical and Magneto - optical Spectroscopy

Y. P. Lee ,  S. M. Kim ,  Y. V. Kud 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2003 .10

A study on the formation of ultra - thin NiSi₂ film and heteroepitaxial growth of epi - NiSi₂ / Si(111).

Sung Eun Boo ,  Sung Rak Hong ,  Jeong Dae Koh 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

1993 .07

Preparation of HfO₂ thin films by MOCVD using the novel single precursor, Hf(mp)₄

양택승 ,  이은주 ,  장홍석 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Preparation of NiO thin films by MOCVD using new liquid aminoalkoxide Ni precursor, Ni(dmamb)₂ and their resistance switching phenomena

Kyung-Chul Min ,  Young Kuk Lee ,  Ki-Seok An 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .02

Low-temperature growth of wafer-scale MoS₂ by MOCVD

Jihun MUN ,  Chegal WON ,  Jeong Won KIM 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Preparation of Metallic Cu Thin Films by MOCVD Using Novel Organometallic Cu(II) Precursors

Sun Sook Lee ,  Jung Woo Pa ,  k 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

MOCVD 장치 개발

석창길

한국진공학회 학술발표회초록집

1996 .02

MOCVD and Characterization of ZnO Thin Films Using and Aminoalkoxide Single Precursor

Ju Yeon Kim ,  Min Chan Kim ,  Young Kuk Lee 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Growth of GaN Films on Si with a LiGaO₂ Buffer Layer by Single Precursor MOCVD

한성원 ,  임종태 ,  유승호 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2001 .02

TiN 증착을 위한 MOCVD 공정 중 열분해에 따른 Precursor 진단 및 오염입자 발생에 관한 연구

나정길 ,  김태성 ,  최재붕 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08

Growth behavior and structural properties of titanium dioxide thin films on Si(100) and Si(111) substrates using single molecular precursor by high vacuum MOCVD

C. -K. Jung ,  B.-C. Kang ,  H.-Y. Chae 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2001 .07

TiO₂ nanorods grown on Ta substrates using a single molecular precursor by thermal MOCVD

Kang Suk Lee ,  Jae-Sung Hyun ,  Young Dok Kim 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08

Growth of TiO₂ Thin Films on Si(100) and Si(111) Substrates Using Single Molecular Precursor by MOCVD and Comparision of Growth Mechanism and Structural Properties

C.-K. Jung ,  B.-C. Kang ,  H.-Y. Chae 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2001 .02

NiSi 나노점 형성 및 비휘발성 메모리 응용에 관한 연구

김은겸 ,  김정호 ,  이경수 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08

플라즈마 원자층 증착기술을 이용한 반응가스에 따른 SnO2 박막 성장 및 특성 변화

Jong Hyeon Won ,  Seong Ho Han ,  Bo Keun Pa 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

The Study of High Frequency Characteristics of Co - Ni - Fe and Co - Ni - Fe - N Thin Films with Film Thickness

한석희 ,  김희중 ,  김윤명 외 3명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2001 .04

TDMAT precursor를 이용한 MOCVD 증착 공정 중 발생하는 오염입자 실시간 측정에 관한 연구

나정길 ,  김태성 ,  최재붕 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02

Temperature Effect On Structural Properties Of Boron Oxide Thin Films Deposited By MOCVD Method

O. M. Moon ,  B. C. Kang ,  J. H. Boo

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .02

Growth of β-SiC nanowires with various metal(Me=Ni, Fe, Au) assistant by thermal MOCVD method

Jae-Sung Hyun ,  Sang-Hun Nam ,  Jin-Hyo Boo

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08