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요약
Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 결과 및 고찰
4. 결론
감사의 글
참고문헌
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Optimization of He - Xe Gas Mixture for Plasma Display Panel
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The diagnosis of Al2O3 atomic layer deposition using quadrupole mass spectrometry and characterization
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2016 .08
QMS를 이용한 반도체 공정용 혼합 기체 조성비의 정량적 측정 기술
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SESSION 2E 측정 및 분석(기체측정)
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2003 .10
Langmuir probe & Mass analysis in N₂ O₂ CF₄ / inert gas (He,Ar,Xe) mixture discharges.
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2002 .02
SESSION 3E 측정 및 분석(기체측정방법론)
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2003 .10
Contamination effect of ion source of Quadrupole Mass Spectrometer(QMS)
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2008 .08
특정 및 분석(기체/입자반응)
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2002 .10
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