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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2003.11
- 수록면
- 44 - 48 (5page)
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Highly unifom films with excellent anti-reflection(AR) properties can be formed on silicon substrate using a simple electrochemical etching technique. In a solar cell manufacturing process, this etching step can improve solar cell efficiency. This technique is based on the selective removal of silicon atoms from the sample surface foming a layer of porous silicon(PS) with adjustable optical, electrical, and mechanical properties. In our investigation we have focused on the fomatlOn of thin film PS layers on the surface of silicon substrates without other anti-reflecting layers. We expect our study can present several promising results that are applicable to the solar cell manufacturing processes. In this paper, \ve review the principles of PS, describe materials and fabrication method used to provide AR coatings on solar cells.
목차
Abstract
1. 서론
2. 소개
3. 실험 및 고찰
4. 결론
5. 후기
참고문헌
참고문헌 (0)
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