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전력전자학회 전력전자학회 학술대회 논문집 전력전자학회 2006년도 전력전자학술대회 논문집
발행연도
2006.6
수록면
470 - 474 (5page)

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This dissertation discuses about a ferrite core plasma source using low operating frequency without sputtering problem by the stored electric field. Compared with the conventional RF power system with 13.56MHz switching frequency, the proposed plasma power system is only separated at 400kHz, so that it makes possible to use of low cost switching elements, PWM control and soft switching. Moreover, it could improve the coupling efficiency for plasma and antenna by using the ferrite core in order to transfer the energy of the load. This dissertation tried to analyze new plasma generation method for the plasma generation system by modeling the plasma load and grafting the concept of impedance matching in order to interpret it with the formula. This dissertation verified the ferrite core inductive coupling plasma source authorized for 400kHz of low frequency power by applying to the semi-conductor ash process thru the measurement of ash capacity and uniformed plasma distribution on the actual wafer.

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 플라즈마 발생 시스템 구성
3. 실험 및 결과분석
4. 결론
참고문헌

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