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한국태양에너지학회 한국태양에너지학회 학술대회논문집 한국태양에너지학회 2006년도 추계학술발표대회 논문집
발행연도
2006.11
수록면
86 - 91 (6page)

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Two methods that can reduce reflectance in solar cells are surface texturing and anti-reflection coating. Wet chemical etching is a typical method that surface texturing of multi-crystalline silicon. Two kinds of silicon surface texturization of multi-crystalline silicon obtained by wet chemical etching are investigated in view of implementation in the solar cell processing. The first one was the acid texturization of saw damage on the surface of multi-crystalline silicon. The second one was porous texturization prepared by double-step chemical etching after KOH saw damage layer was previously removed. These methods of surface texturing are realized by chemical etching in acid solutions HF-HNO₃-H₂O or HF-HNO₃-CH₃COOH. In this solutions we can reduce reflectance spectra by simple process etching of multi-crystalline silicon surface. We have obtained reflectance of 26.74% in 400~1100㎚ from acidic chemical etching after KOH saw damage removal. This result is about 8% less than just saw damage removal substrate. The surface morphology observed by microscope and scanning electron microscopy (SEM).
#습식 화학 에칭(Wet Chemical Etching) #텍스쳐링(Texturing) #다결정 실리콘(Multi-crystalline Silicon) #태양전지(Solar Cells)

목차

Abstract
1. 서론
2. Texturing을 위한 예비적 고찰
3. 실험
4. 결과 및 고찰
5. 결론
후기
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