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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2006.12
- 수록면
- 55 - 61 (7page)
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Titanium oxide (TiO₂) films are deposited on the indium tin oxide (ITO) substrate in an Ar/O₂ atmosphere by using reactive RF (Radio Frequency) magnetron sputtering technique, and Electrochromic properties and durability of TiO₂ films deposited at different preparation conditions are investigated by using UV-VIS spectrophotometer and cyclic voltammetry. Li+ interalation/deintercalation in TiO₂ films shows that the electrochromic properties and durability of as-deposited films strongly depend on gas pressure. TiO₂ films formed in our sputtering conditions are found to remain transparent, irrespective of their Li+ ion contents. The optimum sputtering conditions for film as passive counter electrode in electrochromic devices are working pressure of 1.0 × 10?² torr and oxygen flow raes of 10~15 sccm, respectively.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 실험결과 및 논의
4. 결론
감사의 글
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