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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2004.4
- 수록면
- 537 - 541 (5page)
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Molecular dynamics simulation of nanolithography by AFM is conducted to study nucleation of various defects, and their subsequent development and interactions as well. During nanolithography via AFM, dislocation loops are emitted along the top surface, and resourceful defect interactions such as, formation of voids chain via the motion of a jog, and creations of extended nodes and Lomer-Cottrell Lock are observed.
목차
Abstract
1. 서론
2. 전산 모사 조건과 박막의 모델링
3. 스크래치 결과 결함들의 생성과 움직임 연구
4. 결함들간의 상호작용
5. 결론
후기
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