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논문 기본 정보

자료유형
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한국가시화정보학회 한국가시화정보학회지 한국가시화정보학회지 Vol.5 No.1
발행연도
2007.6
수록면
3 - 8 (6page)

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We present simple methods for fabricating high aspect-ratio polymer nanostructures on a solid substrate by rigiflex lithography with tailored capillarity and adhesive force. In the first method, a thin, thermoplastic polymer film was prepared by spin coating on a substrate and the temperature was raised above the polymer’s glass transition temperature (T<SUB>g</SUB>) while in conformal contact with a poly(urethane acrylate) (PUA) mold having nano-cavities. Consequently, capillarity forces the polymer film to rise into the void space of the mold, resulting in nanostructures with an aspect ratio of ~ 4. In the second method, very high aspect-ratio (＞20) nanohairs were fabricated by elongating the pre-formed nanostructures upon removal of the mold with the aid of tailored capillarity and adhesive force at the mold/polymer interface. Finally, these two methods were further used to fabricate micro/nano hierarchical structures by sequential application of the molding process for mimicking nature’s functional surfaces such as a lotus leaf and gecko foot hairs.
#Nano patterning(나노패터닝) #Capillarity(모세관현상) #Adhesive force(접착력) #High aspect ratio(고종횡비) #Nanohairs(나노섬모)

목차

Abstract
1. Introduction
2. Meterials and Methods
3. Results
4. Discussion
Acknowledgements
References

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