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학술저널
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한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제37권 제1호
발행연도
2004.2
수록면
13 - 21 (9page)

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The deposition rate, the current efficiency and surface morphology of trivalent Cr deposits were investigated according to additives in sulfate bath and current density. The deposition rate of the Cr deposits plated from the formic acid complexed bath was noticeably higher than that of the glycine complexed bath. The current efficiency of the deposition from formic acid bath was higher than that of the glycine bath and increased with current density in the range of 20-50 A/dm². The current efficiency of the deposition from the formic acid bath with boric acid buffer was higher than that of the bath with aluminum sulfate or boric acid-aluminum sulfate buffers. The nodular crystallite size of the Cr deposits increased with current density and the uniform and crack-free growth of the deposits for the aluminum sulfate was observed compared to the other buffers.
#Trivalent chromium #Electrodeposits #Surface morphology #Deposition rate

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌

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