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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제38권 제2호
발행연도
2005.4
수록면
55 - 59 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (4)

2005

ITO/Ni/ITO 박막의 광학적 전기적 특성 연구
김소라 ,  서정은 ,  김상호 외 2명 한국표면공학회지 2005.04 학술저널

2004

ITO/Ni/ITO 박막의 공정변수에 따른 특성 연구
김소라 ,  서정은 ,  김상호 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2004.11 학술대회자료
ITO 박막의 공정변수에 따른 특성 연구
김소라 ,  서정은 ,  김상호 한국표면공학회지 2004.06 학술저널
ITO박막의 공정변수에 따른 특성연구
김소라 ,  김상호 ,  서정은 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2004.05 학술대회자료

초록· 키워드

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ITO/Ni/ITO thin films were deposited on the PET by RF magnetron sputtering. Dependance of the process parameters such as deposition pressure, positions of Ni layer, on the transmittance, reflectance and sheet resistance of ITO/Ni/ITO film were investigated. When the Ni layer is placed at the center of ITO and deposition pressure is low, ITO/Ni/ITO films showed better optical and electrical properties. At these conditions, the transmittance, reflectance and sheet resistance of the ITO film were 90%, 0.38% and 185 Ω/□, respectively.
#Indium Tin Oxide (ITO) #RF Sputtering #NI #Transmittance #Sheet resistance

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과
4. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (3)

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[학술지(정기간행물)] - / 2004 / Influence of pressure and annealing on the microstructural and lectro-optical properties of RF magnetron sputtered ITO thin films 39 : 993 ~ 1003 google schola [학술지(정기간행물)] - / 1997 / Properties of indium tin dxide (ITO) films prepared by r.f. reactive magnetron sputtering at differnt pressures 303 : 151 ~ 155 google schola [학술지(정기간행물)] - / 2003 / Influence of O2 admixture and sputtering pressure on the properties of ITO thin films deposited on PET substrate using RF reactive magnetron sputtering 173 : 299 ~ 308 google schola

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