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한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국공작기계학회 논문집 Vol.18 No.1
발행연도
2009.2
수록면
22 - 28 (7page)

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In order to optimize the polishing process, Run to Run control scheme has been applied to the micro mold polishing in this study. Also, to fully understand the effect of parameters on the surface roughness a design of experiment is performed. By linear approximation of main factors such as gap and rotational speed of micro quill, EWMA (Exponential Weighted Moving Average) gradual mode controller is adopted as a optimizing tool. Consequently, the process converged quickly at a target value of surface roughness Ra 10nm and Rmax 50nm, and was hardly affected by unwanted process noises like initial surface quality and wear of magnetic abrasives.

목차

Abstract
1. 서론
2. 이론적 배경
3. 폴리싱 시스템
4. MAP 공정 특성 분석
5. Run to Run 공정 제어
6. 결론
참고문헌

참고문헌 (7)

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