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In this paper, polishing method using bonded magnetic abrasive particle has been applied to the micro mold polishing. Through process control using the Run-to-Run control, it tried to form the surface roughness In order to grasp the influence of the surface roughness which is reached by selection of control factor and the factor, a design of experiment was been processed. The study is processed with a purpose of to embody and to maintain the surface roughness of nano scale by the basis of an influence between a control factor and the factors which has been selected in this way. As a result, the result of the process control converged at a target value of surface roughness Ra 10㎚ and Rmax 50㎚.

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 폴리싱 메커니즘
3. Run to Run control
4. 공정 파라미터 분석과 공정 제어 결과
5. 결론
참고문헌

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