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대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2008년도 마이크로/나노공학부문 춘계학술대회 강연 및 논문집
발행연도
2008.5
수록면
13 - 17 (5page)

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Nanoimprint (NIL) is an attracting next-generation lithography because of its merits in nanometer-scale high resolution and low process cost, and mass production. One of the useful applications using NIL is the fabrication of antireflective structure (ARS) which has a sub-wavelength nanostructure below wavelength of visible light similar to moth-eye. The efficient fabrication method of ARS is commercially valuable because it can be used in anti-glare monitor, car dashboards, and solar cells. In this work, we fabricated various nanopatterns and investigated the effect of AR on each pattern by using nanoimprint lithography. The used Ni master of pitch of 250㎚ and depth of 230㎚ was used. Nanoscale flexible PDMS molds and UV-curable PUA(polyurethane acrylate) molds were successfully replicated from Ni master. We will also present a low-cost fabrication method of nano-scale mold using plasma-induced polymer nanograss.
#Nanoimprint(나노 임프린트) #Antireflective film(반사방지막) #Nanopattern(나노패턴) #Synthetic moth-eye(인조나방눈)

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 결과 및 고찰
4. 결론
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