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논문 기본 정보

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학술대회자료
저자정보
김용대 (한국과학기술원) 박현철 권세진 (한국과학기술연구소)
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2009년도 추계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2009.11
수록면
1,165 - 1,168 (4page)

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The stress analysis which is for measurement of the stress distribution in materials and structures subjected to static or dynamic forces or loads relies commonly on the strain measurement techniques since stress can be calculated by using stress-strain relationships. By far the most widely used devices for measurement of strain is a metal foil strain gauge. However, a limitation of the metal foil used as strain gauges is that their resistance changes as the temperature changes. This result that the metal foil gauge cannot be used for strain measurements of structures at the high temperature environment. On the other hand, the strain gauge made with chromium silicide is suitable to measure strain at the high temperature environment because chromium silicide has relatively low TCR (Temperature Coefficient of Resistance).
#Chrome silicide(크롬실리사이드) #High temperature strain gauge(고온용 스트레인 게이지) #MEMS strain gauge(멤스 스트레인 게이지)

목차

Abstract
1. 서론
2. 크롬실리사이드 스트레인 게이지의 제작
3. 성능 평가 및 고찰
4. 요약 및 향후 계획
후기
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