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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국기계가공학회 한국기계가공학회지 한국기계가공학회지 제9권 제1호
발행연도
2010.2
수록면
106 - 113 (8page)

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The most suitable condition for plasma source ion implantation(PSⅡ) was found based on the study of the characteristics of PSⅡed tool and machined surfaces. The depth analysis according to the chemical bonding state of elements and surface component elements through the XPS and SIMS, was conducted to find the improved property of the PSⅡed surface. Due to the diffusion of PSⅡ, the nitrogen was found up to a depth of about 150㎚ according to the supplied voltage and ion implanted time. The deep diffusion by nitrogen caused the surface modification, but the formation of oxide component was found due to the residual gas contamination on the surface. Statistical method of ANOVA was conducted to find the effects of spindle speed and feed rate in interaction for machined surface roughness with PSⅡed tools. The surface modification was found largely occurred by the nitrogen implanted surface with 2 hours for 27㎸, 35㎸ and 43㎸.

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 실험장치 및 방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
후기
참고문헌

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2010-581-002267404