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전본근 (동부하이텍) 문남칠 (동부하이텍) 권경욱 (동부하이텍) 이창준 (동부하이텍) 김종민 (동부하이텍) 김남주 (동부하이텍) 유광동 (동부하이텍)
저널정보
대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 2010년 하계종합학술대회
발행연도
2010.6
수록면
450 - 452 (3page)

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We proposed the new process flow that is P-body region formation after gate etch using DPP(Double PR Process) for improving Rsp and stable Vt of nLDMOS. The performance is achieve ... 전체 초록 보기

목차

Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 본론
Ⅲ. 결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
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