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Dry etching of Al₂O3 thin films in inductively coupled plasma system
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2016 .08
Inductively Coupled Plasma의 Numerical Simulation
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1998 .07
Inductively Coupled Plasma 장치에서 Hybrid Plasma Model을 활용한 C₂F8/ O₂ 가스의 특성 해석
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2019 .08
Analysis of chemical reactions of CF₄ and C₄F8 for inductively coupled plasma based on plasma parameters
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2019 .08
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2017 .08
Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas
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2020 .02
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2002 .02
C6F6를 이용한 Plasma 공정 중 회수 전후의 가스 및 Plasma 특성 연구
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2020 .08
The effect of gas flow on the substrate temperature distribution in an inductively coupled plasma
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2020 .08
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2016 .02
Inductively Coupled Plasma 방전의 Global Modelling 과 Simulation
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Interpretation of current decrease during E - H mode transition in a cylindrical inductively coupled plasma
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2018 .08
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2016 .08
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2020 .08
Si Fin etching using Cl₂/Ar Sync, Asynchronized Pulsed Inductively Coupled Plasmas
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Plasma parameters variation in O₂ / He, Ar, Xe inductively coupled plasma as a function of mixing ratio
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Investigation of effect of rf bias frequency on plasma parameters in a remote inductively coupled plasma
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2018 .08
CFD-Plasma & K-Plasma를 이용한 plasma simulation
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2008 .08
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